Термическая стойкость

Термическая стабильность созданного упрочнения определялась после старения металла при 600 °С в течение 104 ч, что соответствует по температурно-временному параметру старению при 565 °С в течение 105 ч.

Необратимое разложение Л^Од в контуре АЭС может быть обусловлено как радиационными, так и чисто термическими процессами. Исследованию радиационного разложения N2O4 как теплоносителя и рабочего тела АЭС посвящен ряд работ [290—292]. Установлено, что в области температур Г^800°К и давлений Р^170 атм радиационная стойкость N2O4 достаточно высока. Менее изучена термическая стабильность реагирующей системы N2O44=±2NO2^2NO + O2. Необратимое разложение этой системы может быть вызвано разложением N2O4, NO2 и NO. В параграфах Г—4 данной главы показано, что разложение окислов азота NO и NO2 с образованием таких конечных продуктов, как N2 и О2, возможно уже при температурах порядка 600 °К- Процессы необратимого разложения. NO и N02 протекают в газовой фазе, на стенках реакционных сосудов и на поверхности различных металлических и окисных катализаторов. Вклады различных процессов в суммарную скорость разложения NO и NO2 зависят от температуры, давления, состава реакционной смеси, природы стенок реакционного сосуда, наличия катализатора и других факторов. Так, по данным Лоусона [241], необратимое разложение NO и N02 в области температур Г^400 °К катализируется парами воды. Не исключена возможность и того, что молекулы N2O4 также могут участвовать в ряде гомогенных и гетерогенных процессов, приводящих к образованию азота и избыточного кислорода. Из сказанного выше следует, что при расчете необратимого разложения реагирующего теплоносителя N2O4=p±2NO2*±2NO + O2 необходимо учитывать влияние стенок каналов АЭС, паров воды и примесей других веществ. Эта задача в настоящее время не может быть решена, так как отсутствуют необходимые кинетические данные и, в частности, данные по кинетике гетерогенного разложения N2O4, NO2 и NO на поверхности каналов из нержавеющей стали марки Х18Н10Т. Сталь марки Х18Н10Т, как известно [293—295], является одним из возможных конструкционных материалов АЭС с N2O4 в качестве теплоносителя и рабочего тела. Отсутствует также даже качественная информация относительно необратимого разложения NO2 в газовой фазе. В настоя-

Термическая стабильность поликристаллического

ТЕРМИЧЕСКАЯ.СТАБИЛЬНОСТЬ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО МОЛИБДЕНА И ЕГО СПЛАВОВ

рой фазы и падает пластичность. При последующей высокотемпературной (1600—1700°С) деформации локальный фазовый наклеп в группировках должен релаксироваться. Относительно крупные размеры частиц фаз внедрения в металле, прошедшем термообработку в слитке, резко замедляют их коагуляцию в процессе высокотемпературного отжига прутков, а следовательно, увеличивают и термическую стабильность пластичности последних. Чем крупнее частицы фаз внедрения в термообработанном слитке, тем выше термическая стабильность механических свойств прутков (см. 3.8, кривые 2 и 3).

Молибден и другие тугоплавкие металлы (в частности, вольфрам) обычно испаряют электронно-лучевым нагревом в условиях глубокого вакуума (К)-6—10~7 мм рт. ст.). Метод (вакуумного напыления имеет следующие недостатки: 1) большие потери, напыляемого металла; 2) загрязнение покрытия остаточными газами в камере и в исходном металле; 3) трудность нанесения толстых покрытий тугоплавких металлов из-за низкой летучести и малой скорости испарения осаждаемого металла; 4) сложность нанесения равномерных по толщине покрытий на подложки с рельефной поверхностью; 5) недостаточная термическая стабильность покрытия из-за большого различия в температурах зон конденсации и испарения; 6) невозможность получения текстурированных покрытий из-за сложности регулирования режима осаждения; 7) недостаточная адгезия покрытия; 8) пористость покрытия.. Вследствие этих недостатков данный метод нанесения молибденовых и вольфрамовых покрытий широко не применяется.

Ожидается, что термическая стабильность пленок a-SixNi_x : Н по сравнению с a-Si: Н будет выше, так как эффузия связанного с матрицей водорода из нитрида кремния стехиометпического состава не вдет даже при температурах выше 600 °С. Действительно, как видно из 4.4.5, связи Si-H в a-SixNi-x : Н остаются стабильными вплоть до 400 °С, а после отжига при 550 °С в матрице остается 50 % растворенных атомов водорода. Поведение пленок a-Si : Н противоположно: экстракция водорода из

превышает приведенные пределы примерно на порядок. Более того, этот тройной сплав обладает рядом характерных особенностей, которые ие наблюдались для a-Si, например термическая стабильность даже при 700 °С и химическая стройкость к растворам кислот и щелочей. Среди них особенно примечательны свойства аморфного Si-Ge-B в контакте с моиокристаллическим кремнием. Аморфный сплав ведет себя подобно металлу Шоттки, обеспечивая подходящую высоту барьеров для дырок, что значительно улучшает характеристики как диодов с р-п-переходом, так и диодов с барьером Шоттки (ДЩБ).

Было показано также, что аморфные пленки GdCo имеют температуру компенсации вблизи комнатной и пригодны для магнитно-оптической записи [29]. На 7.3.14 показана зависимость лазерной мощности, необходимой для записи бита диаметром 1 мкм на пленке GdCo, от длительности импульса. Толщина пленки составляла 150 нм. Экстраполируя экспериментально полученные данные, можно сказать, что имеется возможность записывать информацию со скоростью 100 Мбит/с при мощности лазера не более 6—7 мВт. Термическая стабильность пленок GdCo оценивалась из измерений электрического удельного сопротивления. На 7.3.15 приведены типичные температурные характеристики удельного сопротивления пленок GdCo без смещающего напряжения (кривая 1} и при его наличии (кривая 2). Напряжение смещения составляло -100 В. Температура, при которой удельное сопротивление смещенных пленок начинает медленно уменьшаться, намного выше соответствующей температуры для насмешенных пленок. Такое уменьшение удельного сопротивления можно связать со структурной перестройкой аморфной пленки. Температура, при которой удельное сопротивление резко меняется, также намного выше на пленках под смещением; этот эффект соответствует кристаллизации. Из этих результатов наглядно

" ТПТ, термическая стабильность 293

Ожидается, что термическая стабильность пленок a-SixNi_x : Н по сравнению с a-Si: Н будет выше, так как эффузия связанного с матрицей водорода из нитрида кремния стехиометпического состава не идет даже при температурах выше 600 °С. Действительно, как видно из 4.4.5, связи Si-H в a-SixNi_x : Н остаются стабильными вплоть до 400 °С, а после отжига при 550 °С в матрице остается 50 % растворенных атомов водорода. Поведение пленок a-Si : Н противоположно: экстракция водорода из

Иногда вместо Кя и /Ст завод-изготовитель трансформаторов тока указывает допустимые значения гтах и /(D (или /(4>), при которых обеспечивается динамическая и термическая стойкость трансформатора тока.

В зависимости от цели расчета определяется расчетное время. Электродинамическая стойкость аппаратов и токопроводов оценивается при расчетном времени, равном 0,01 с. Для проверки высоковольтных выключателей по коммутационной способности расчетное время складывается из времени действия быстродействующей релейной защиты, равной 0,01 с, и собственного времени отключения выключателя ?с„. Термическая стойкость требует проверки за расчетное время, равное /откл и состоящее из времени действия основной релейной защиты /р., (с учетом действия АПВ) и полного времени отключения выключателя гк откл (включая время горения дуги).

Термическая стойкость трансформатора тока выполняется, если тепловой импульс

Особую осторожность необходимо проявлять при подаче на панель токов, превышающих номинальные вторичные токи трансформаторов тока. При этом учитывается термическая стойкость обмоток реле и то, что в одной фазе с испытываемым реле, рассчитанным на большие токи, могут быть включены обмотки реле, рассчитанного на небольшие токи. Последние закорачиваются во избежание их повреждения токами большого значения.

7-19. Термическая стойкость проводников н аппаратов . 269 7-20. Расчетные условия для выбора проводников v аппаратов .................. 275

Основными характеристиками контактов являются их электрическое сопротивление и термическая стойкость, т. е. отсутствие сваривания контактов при прохождении больших токов, например токоз к. з.

Секционные реакторы ограничивают ток к. з. на сборных шипах электростанций и в распределительной сети генераторного напряжения; линейные реакторы ограничивают ток к. з. только з распределительной сети. Установка линейных реакторов позволяет сохранить достаточно высокий уровень напряжения на сборных шинах электроустановки при к. з. в распределительной сети ( 7-21). Сопротивление линейных реакторов выбирают исходя из необходимого ограничения токов к. з. по одному из условий (наиболее жесткому): термическая стойкость кабелей распределительной сети

(Кб-2), коммутационная способность выключателей распределительной сети (В-2), термическая стойкость кабелей питающей сети (К.б-1), коммутационная способность выключателей питающей сети (В-1). В большинстве случаев при развитой распределительной сети ли-

митирующим фактором является термическая стойкость кабелей этой сети. При этом требуемая реактивность линейного реактора определяется по выражению

7-19. ТЕРМИЧЕСКАЯ СТОЙКОСТЬ ПРОВОДНИКОВ И АППАРАТОВ

Термическая стойкость аппаратов характеризуется их номинальным или предельным током термической стойкости /т.ном или /т.пр и допустимым временем их прохож-