Равномерное распределение

Для непроизводственных помещений, помещений, в которых работа может выполняться по всей площади, при интенсивном заполнении площади рабочими местами необходимо применять более равномерное освещение. Общее освещение в системе комбинированного освещения выполняют равномерным. При люминесцентном освещении местное освещение предусматривают только в исключительных случаях.

Светильники отраженного света используются в общественных помещениях, имеющих архитектурное оформление. Они создают более равномерное освещение по сравнению с первыми двумя типами светильников, но требуют большого расхода электроэнергии. Для торговых и банкетных залов, вестибюлей дополнительно предъявляются художественно-архитектурные требования.

Общее равномерное освещение имеет наиболее широкое распространение и применяется в производствах с равномерно распределенным по площади оборудованием - прокатные цехи металлургических предприятий, сборочные цехи машиностроительных заводов, большинство цехов текстильной промышленности и заводов искусственного волокна, деревообрабатывающие цехи, вспомогательные помещения и т.д.

В помещениях, где предусматривается общее равномерное освещение лампами накаливания или лампами ДРЛ, светильники рекомендуется

Для освещения производственных помещений следует применять систему комбинированного или одного общего освещения. Для освещения непроизводственных помещений следует применять общее равномерное освещение.

Для освещения непроизводственных помещений применяют общее равномерное освещение.

Наиболее простое решение вопроса заключается в экспонировании образца светом со стороны электронного луча. Однако приспособления для сканирования электронного луча (например, сетки, ячейки, катушки) служат как бы экраном падающему свету. Задачу можно было бы решить с помощью цепочки светоизлучаюших диодов, но в этом случае трудно обеспечить равномерное освещение.

Наиболее простое решение вопроса заключается в экспонировании образца светом со стороны электронного луча. Однако приспособления для сканирования электронного луча (например, сетки, ячейки, катушки) служат как бы экраном падающему свету. Задачу можно было бы решить с помощью цепочки светоизлучающих диодов, но в этом случае трудно обеспечить равномерное освещение.

Общее равномерное освещение осуществляется ПР, устанавливаемыми по периметру площадок на мачтах высотой 10—50 м в зависимости от ширины освещаемой площадки.

При определении высоты подвеса светильника необходимо учитывать, что часть светового потока отражается от поверхности потолка. Опыт показывает, что достаточно равномерное освещение потолка для большинства светильников рассеянного света получается при условии соблюдения следующего соотношения ( 13.3):

Светильники прямого света обеспечивают неравномерное освещение помещения, в то время как светильники рассеянного света — равномерное. Светильники отраженного света обеспечивают равномерное освещение помещения при полном отсутствии теней.

Применение ферромагнитного якоря и полюсных наконечников позволяет получать равномерное распределение индукции В в воздушном зазоре 5 машины ( 13.10) и таким образом уменьшать пульсацию напряжения генератора. Если витки 1 и 2 генератора постоянного тока ( 13.9, а) расположить в пазах якоря, вращающегося в магнитном поле главных полюсов с полюсными наконечниками, то напряжение генератора ( 13.9, в) меньше пульсирует, чем при вращении этих витков в однородном магнитном поле ( 13.9, б) .

Привод с электромагнитными муфтами обеспечивает непрерывный переход от натяжки талевой системы к подъему инструмента, остановку колонны бурильных труб на заданной высоте, полную загрузку приводных двигателей и равномерное распределение нагрузки между ними.

Формирование теплового поля при пайке ИК-излучением проводится при помощи различных по геометрии отражателей (рефлекторов). Для фокусирования излучения в точке или вдоль линии применяют отражатели эллиптической формы, в ближнем фокусе которого помещается источник, а в дальнем — объект нагрева. Равномерное распределение излучения по поверхности изделия достигается использованием отражателей параболической или гиперболической формы. Рефлекторы изготавливают из хорошо обрабатываемого материала (медь, латунь, алюминий), а их внутренние поверхности полируют. Длительная и непрерывная работа рефлекторов обеспечивается охлаждением внутренних полостей проточной водой; расход воды составляет 0,3 ...0,5 л/мин. Использование РЖ-излучения для пайки на ПП поверхностно-монтируемых элементов позволяет проводить соединения как индивидуальным, так и групповым методами. Разделение при групповой пайке зоны обработки на два участка (на первом производится предварительный нагрев и выравнивание температур платы и компонентов, а на втором — пайка под действием мощного импульса энергии) позволяет уменьшить брак из-за возникновения в соединении больших внутренних напряжений. Для ограничения зоны нагрева и снижения температурного влияния излучения на паяные ЭРЭ применяют защитные маски из металла. На качество паяного соединения важную роль оказывает размер галтели припоя. Эта галтель должна обеспечить равномерную передачу термических и механических напряжений от платы к керамическим пассивным элементам. Рекомендуется массу припоя регулировать таким образом, чтобы размеры галтели не превышали 2/3 полной толщины компонента. При большем размере могут произойти отслаивания торцевого электронного вывода или возникнуть напряжения вблизи верхних углов галтели и в керамике.

Пар через пароотборное устройство 11 поступает в дегазационный холодильник 8. На входе в холодильник установлен патрубок 7 с большим числом мелких отверстий внутри, служащий для очистки пара от случайных механических примесей и обеспечивающий равномерное распределение его по всему сечению холодильника.

Привод с электромагнитными муфтами обеспечивает непрерывный переход от натяжения талевой системы к подъему инструмента, остановку колонны бурильных труб на заданной высоте, полную загрузку приводных двигателей и равномерное распределение нагрузки между ними при двухдвигательном приводе.

Перечисленные требования характерны для буровых установок любого класса. В зависимости от конкретных особенностей установки при формулировании технических требований к системам электропривода возникают и дополнительные условия, например накладываются ограничения на габариты и массу оборудования, предъявляются определенные требования к монтаже-способности и транспортабельности оборудования. Электродвигатели должны выбираться с учетом того, что они питаются от тех же источников электроэнергии, что и электродвигатели насосов и ротора. При использовании двух и более двигателей должно быть обеспечено равномерное распределение нагрузки. Системы управления должны обеспечивать наиболее полное использование регулировочной способности двигателей, возможность работы в тормозных режимах, высокое быстродействие и т. п.

ными в плече тиристорами для увеличения мощности преобразователя. При этом равномерное распределение тока между двумя параллельно включенными вентилями осуществляется магнитными симметрирующими устройствами СУ.

Осевые и радиальные усилия, действующие на вал насоса,, воспринимаются и радиально-осевым подшипником, выполненным отдельным узлом ( 4.3). Подшипник состоит из корпуса 1Г упорного гребня 3, верхнего 4 и нижнего 7 упорных колец, радиального подшипника 5, поддона. Упорный гребень, выполненный совместно с шейкой радиального подшипника, установлен на валу на двух цилиндрических поясках и прижимается гайкой в осевом направлении. Крутящий момент от упорного гребня на вал насоса передается через шлицевое соединение втулки с валом насоса. Осевые усилия, действующие на вал насоса, через упорный гребень передаются на упорные колодки, которые опираются на рычажную балансирную систему типа «Кингсбери», обеспечивающую равномерное распределение нагрузки между колодками. Упорные колодки выполнены составными и имеют рабочий слой из баббита Б-83 толщиной 3 мм. Для улучшения образования масляного клина точка опоры колодок имеет смещение от центра колодки в сторону выходной кромки. Рычажная система с упорными колодками и обоймой собрана в упорное кольцо. В корпусе радиально-осево-го подшипника установлены два упорных кольца: верхнее, воспринимающее осевые силы, действующие вверх, и нижнее при обратном направлении осевых сил. Радиальное усилие воспринимается радиальным подшипником, представляющим собой опорную цилиндрическую втулку с заливкой баббитом Б-83.

цепочки Rs, Сш, Rm. Они обеспечивают равномерное распределение по тиристорам как постоянного, так и импульсного напряжения. Для управления коммутатором используется схема с трансформаторной связью и последовательным включением первичных обмоток импульсных трансформаторов Т1-^-Т12. Запуск коммутатора осуществляется путем подачи на вход цепи управления импульса тока с фронтом около 0,5 мкс.

Проведенный расчет показывает, что минимизация среднего времени задержки по правилу «квадратного корня» приводит к тому, что в слабозагруженных концентраторах задержка существенно выше, чем в концентраторах с высокой загрузкой. Для концентратора 1 или '2 задержки составляют соответственно 6,37 и 5,04 с, тогда как для концентратора 3 они равны '24,7 с. Равномерное распределение суммарной пропускной способности (поровну между концентраторами) потребует в нашем примере увеличения пропускной способности по меньшей мере до 1500 бит/с (с тем, чтобы обеспечить минимальную пропускную способность концентратора 2, равную 480 бит/с). Однако при этом минимальная средняя задержка возрастает по сравнению с задержкой, определяемой (6.6'), но зато пользователи, создающие слабую загрузку, не будут поставлены в более тяжелые условия по задержке.

Разброс входных характеристик можно уменьшить, изменяя сопротивления резисторов в цепи баз. Более равномерное распределение базовых токов позволяет увеличить коэффициент разветвления схемы. Однако введение резисторов снижает скорость переключения схемы. Этого можно избежать, шунтируя резисторы в цепях связи емкостными элементами. Такая, схема получила название транзисторной логики с резистивно-емкостными связями. Введение емкостных элементов ускоряет переходные процессы в схеме, но ухудшает ее технологичность. Поэтому данное схемотехническое решение не нашло широкого применения. Схема базового элемента РТЛ-типа приведена на 1.13. При наличии на обоих входах схемы напряжения логического «О» (напряжения 0,1 В) транзисторы 7\ и Г2 закрыты. При этом, если к выходу