Позволяет эффективно

Экспонирование фоторезистов производят через фотомаску (фотошаблон) с изображением элементов прибора или схемы. После обработки фоторезиста в растворе, удаляющем экспонированные участки (проявителе), на поверхности пластины образуется рельефное изображение, устойчивое к воздействию агрессивных сред, таких, как кислоты и щелочи, даже при нагревании. Полимерные системы, из которых формируют фоторезисты, могут обладать чувствительностью не только к видимому или ультрафиолетовому (УФ) излучению, но и к потоку электронов (электронорезисты) или к рентгеновскому излучению (рентгенорезисты). Соответственно процессы литографирования в этих случаях называются электронолитография или рентгенолитография. Схема процесса фотолитографии с использованием негативных и позитивных фоторезистов показана на 3.1.

Для характеристик позитивных фоторезистов часто используют такой параметр, как устойчивость к воздействию стандартного проявителя [мин]. Значение этой величины должно быть по крайней мере на порядок выше времени проявления.

Стабильность эксплуатационных характеристик фоторезиста во времени определяется их неизменностью при определенных условиях хранения и использования. Для контроля стабильности фотохимических свойств позитивных фоторезистов проводят измерение оптической плотности слоя определенной толщины, которая пропорциональна концентрации светочувствительных центров. Изменение ее во времени свидетельствует о необратимых химических превращениях, происходящих в структуре фоторезиста.

Для практического применения фоторезистов важно знать их спектры поглощения, представленные для основных типов негативных и позитивных фоторезистов на 3.3.

Некоторые фоторезисты, например позитивные, отличаются, невысокой щелочеустойчивостью. Низкая устойчивость против щелочей позитивных фоторезистов объясняется наличием в композиции фенольных смол, которые растворяются в щелочах на необлученных участках защитного рельефа при проявлении. Стойкость, таких резистов повышается, путем замещения части фенольных. гидроксилов радикалами, инертными к щелочам.

Выбор типа фоторезиста и условий его применения определяется назначением фотолитографического процесса. Основным достоинством позитивных фоторезистов является более высокая в сравнении с негативными разрешающая способность, что объясняется различиями в поглощении УФ облучения.

Преимущество позитивных фоторезистов вовсе не отвергает возможность и необходимость применения негативных.

Аналогичные результаты получены и при исследовании чувствительности негативных и позитивных фоторезистов различных марок.

переходят в 'Нерастворимое состояние и создают после проявления защитные участки, соответствующие прозрачным участкам фотошаблона (негативное изображение рисунка фотошаблона). В позитивных фоторезистах освещенные учаеши изменяют свои свойства так, что могут быть удалены с помощью соответствующих растворов. Незасвеченные участки при этом сохраняются, повторяя рисунок фотошаблона (позитивное изображение). К преимуществам позитивных фоторезистов по сравнению с негативными относятся:

Однако преимущества позитивных фоторезистов не исключают возможность- использования на отдельных этапах производства негативных фоторезистов. Например, для некоторых травителей негативный фоторезист предпочтительнее позитивного с точки зрения кислото-устойчи'вости. Кроме того, у негативных фоторезистов проще .проявление: в качестве проявителя можно использовать органический растворитель, не взаимодействующий с поверхностью пластины.

Проявление негативных фоторезистов заключается в растворении незадубленных участков в растворителях, «а основе которых приготовлен фоторезист.- Проявление позитивных фоторезистов представляет собой химическую реакцию, связанную с превращением кислот в раствори-мые соли. Для фоторезиста ФП-383 используют тринат-рийфоюфат NaaPCV 12НгО (20 грамм я а 1л деионизован-ной воды). Перспективными в отношении производительности и качества "являются распыление тринатрийфосфата и обработка в парах органического растворителя (для негативных фоторезистов) .

Персональный компьютер позволяет эффективно выполнять научно-технические и планово-экономические расчеты, организовывать базы данных, подготавливать и редактировать документы и любые другие тексты, вести делопроизводство, обрабатывать таблицы, результаты экспериментов, решать задачи автоматизированного проектирования, представлять результаты

•вместо лучей видимого или ультрафиолетового света. Эквивалентная длина волны электронного пучка на несколько порядков меньше, чем светового, а большая плотность энергии луча позволяет эффективно экспонировать электронно-чувствительные слои — электроноре-зисты. Практически можно получить широину линий до 0,1 мкм при нечеткости края порядка 300 А. Управление процессом формирования структур осуществляется специализированной ЭВМ; необходимость изготовления фотошаблонов отпадает,

Электронный счетчик не содержит подвижных частей, а программирование процессора позволяет эффективно.использовать его в автоматизированных системах комплексного учета электроэнергии для анализа суточных графиков нагрузки, многотарифного расчета за электроэнергию и т. п.

можно использовать антенны с узкой диаграммой направленности, при которой энергия передатчика спутника концентрируется на ограниченной площади. Это позволяет эффективно использовать ИСЗ для обслуживания небольших определенных зон. Первая в мире СЛС была создана в СССР в 1964 г., когда был осуществлен обмен ТВ программами между Москвой и Владивостоком с помощью ИСЗ «Молния». С тех пор началось быстрое развитие СЛС во всем мире. В основном они используются в сетях распределения ТВ и звуковых вещательных программ, а также для передачи ИГП. Вместе с тем аппаратура СЛС позволяет осуществлять и двустороннюю многоканальную телефонную связь.

При наличии нескольких разных трансформаторов кубическая форма наибольшего трансформатора не позволяет эффективно использовать весь объем блока. Следовательно, блок имел оптимальный объем при неоптимальной форме отдельных трансформаторов.

Коэффициент т называют коэффициентом Томсона. Большая термо-э. д. с.- полупроводников позволяет эффективно использовать их в качестве термоэлектрических материалов. 3.5.2. Эффект Холла

Действительное уравнение (8-10) решается относительно /х методом Гаусса, после чего находятся Ц//-Ц и остальные параметры. В расчетах используется только верхняя треугольная матрица \\x\\. Описанный алгоритм позволяет эффективно решать системы уравнений до 180-го порядка (например, на ЭВМ типа «Минск-32» или ЕС-1022), что значительно больше, чем допустимый порядок системы при непосредственном решении уравнений (8-8) в комплексных числах.

Рассмотрим на примере вопрос о том, в каких случаях резервирование позволяет эффективно повысить надежность аппаратуры.

Метод «раскрутки» нашел широкое применение в системах диагностики ЦВМ, благодаря ряду преимуществ, важнейшее из которых — небольшой объем диагностического ядра. Метод «раскрутки» позволяет эффективно использовать принцип микропрограммного управления для диагностики неисправностей.

Дифференциальная защита является быстродействующей защитой, работающей без выдержки времени; селективность ее действия обеспечивается самой схемой защиты. Для повышения чувствительности защиты реле тока включают через быстройасыщающиеся трансформаторы тока (БИТ), практически запирающие защиту, если в токе к. з. есть значительная апериодическая составляющая. При этом можно принять fea—1. Наличие в схеме БНТ позволяет эффективно отстроиться от бросков тока небаланса при внешних к. з., но приводит к увеличению на 1—1,5 периода время действия защиты при внутренних к. з. Промышленность поставляет реле типа РНТ, состоящие из быстронасыщающегося трансформатора (БНТ) с дифференциальной, выравнивающими, короткозамкнутой и вторичной обмотками и токового реле мгновенного действия типа РТ. Выравнивающие обмотки позволяют скомпенсировать неравенство токов в плечах дифференциальной защиты.

Как указывалось выше, основной схемой дифференциальной защиты является схема с БНТ ( 11-18). Наличие БНТ позволяет эффективно отстроиться от бросков намагничивающего тока и токов небаланса при внешних к. з. БНТ практически запирает защиту при наличии апериодической составляющей в токе дифференциальной цепи. Отстройка защиты поэтому может производиться от установившегося значения периодической составляющей тока небаланса, что значительно повышает чувствительность защиты.