Получение заданного

4-10. Получение вращающегося магнитного поля с помощью трехфазной системы

7-3. Получение вращающегося магнитного поля

7-3. Получение вращающегося магнитного поля........ 291

12-21. Получение вращающегося магнитного поля при помощи трехфазной системы токов.

12-21. Получение вращающегося магнитного поля при помощи трехфазной системы токов.

Рассмотрим в качестве примера получение вращающегося магнитного поля с помощью трехфазного тока, как это показано на

а) Получение вращающегося поля. Большим достоинством трехфазной системы является возможность получения вращающегося магнитного поля, которое находит широкое применение в электрических машинах. Рассмотрим принцип получения вращающегося магнитного поля.

6-15. Получение вращающегося поля с помощью трехфазной системы

14.4. Получение вращающегося двухполюсного магнитного поля

7.3. Получение вращающегося магнитного поля...........................327

7.3. Получение вращающегося магнитного поля

2. (О) Возможно ли получение вращающегося магнитного поля с помощью одно-, двух-, четырехфазной системы токов?

Проектирование системы с постоянным магнитом в большинстве случаев сводится к выбору материала, размеров магнита и конфигурации магнитной системы, обеспечивающих получение заданного значения магнитной индукции в рабочем воздушном зазоре при наилучшем использовании свойств материала. г

ция резисторов может быть произвольной, однако во всех случаях отношение длины резистора к его ширине должно быть согласовано с удельным сопротивлением материала исходного диффузионного слоя и обеспечено получение заданного номинала. Ширина резистора ограничивается разрешающей способностью фотолитографии. Высокоомные резисторы рекомендуется выполнять в виде параллельных полосок с перемычками между ними. Номинал резистора в этом случае будет выдержан более точно, чем для резистора изогнутой формы. Любой диффузионный резистор может пересекаться проводящей дорожкой, так как проведение металлизированного проводника по слою оксида кремния, покрывающему резистор, не оказывает существенного вредного влияния. Резисторы, у которых необходимо точно выдерживать отношение номиналов, должны иметь одинаковую ширину и конфигурацию и располагаться в непосредственной близости друг от друга. Если ИМС содержит резисторы с большой рассеиваемой мощностью, то их следует располагать в периферийных областях кристалла.

Автоматическое управление шихтовкой доменной плавки при помощи УВМ1 имеет своей целью получение заданного состава чугуна и требуемого состояния шлака путем более точной дозировки компонентов шихты с учетом их химического состава и физических свойств. Машина УВМ1 рассчитывает программу шихтовки на основании информации о составе шихтовых материалов и продуктов плавки (чугуна, шлака). При расчете учитываются также влажность кокса и вынос колошниковой пыли. В соответствии z рассчитанной программой шихтовки УВМ1 выдает управляющие воздействия в системы взвешивания и дозирования шихтовых материалов, которые транспортируются затем к скипам и загружаются в печь по программе, заданной системой загрузки.

Только при подаче входного сигнала достаточной величины усилитель начинает работать и обеспечивать получение заданного сигнала на сопротивлении нагрузки.

При испытании на воздействие многократных нагрузок испытательное оборудование должно обеспечивать получение заданного ускорения, с погрешностью не ниже ±20%. Характеристики некоторых отечественных образцов испытательного оборудования, предназначенного-для испытаний изделий на удар, приведены в табл. 5.8.

1. Получение заданного нес и н у с'о и д а л ь-ного напряжения. По условию задачи напряжение состоит из пяти синусоидальных составляющих (слагаемых). Каждой синусоидальной составляющей, называемой гармоникой, присваивается номер, соответствующий кратности ее частоты по отношению к первой составляющей. Так, в нашем случае ы = «]+и3 + «5+"7 + «9, т.е. напряжение состоит из пяти гармоник.

Кроме того, статистическая информация может быть еще целевой, если в качестве параметра неупорядоченности рассматривается неопределенность достижения какой-либо заданной цели. При этом в качестве цели, например, может выступать получение заданного эффекта с р=[ или достоверность предсказания объективно действующих вероятностных событий. В первом случае за : ара-метр неупорядоченности примем Пуз—\1р-лъ а вп втором — /7V..= — Р]1Яа.з-> гДе P&j — априорная вероятность достижения цели б /-й ситуации; ga.i — априорное предсказание вероятности появления /-го события; Pi — действительная вероятность /-го события.

В единицах работы разделения принято выражать годовую проектную и фактическую производительность разделительных установок и заводов. Таким образом, подразумевается, что действительной продукцией разделительных заводов является производимая ими работа разделения. Это связано с тем, что разделительный завод, спроектированный на получение заданного годового количества обогащенного урана с заданной концентрацией 235U, может вместо этого фактически производить другое количество урана, обогащенного до некоторой другой концентрации 235U, отличающейся от проектной концентрации 235U при условии, что работа разделения остается прежней. Правда, при этом концентрация 235U.B выпускаемом продукте может отличаться от проектной только в некотором интервале, определяемом конструкционными особенностями завода. Например, газодиффузионный завод «Евро-диф» во Франции рассчитан на производство урана, обогащенного 235U не более чем до 5 % -

В единицах работы разделения принято выражать годовую про-гктную и фактическую производительность разделительных установок и заводов. Таким образом, подразумевается, что действительной продукцией разделительных заводов является производимая ими работа разделения. Это связано с тем, что разделительный завод, спроектированный на получение заданного годового количества обогащенного урана с заданной концентрацией 235U, может вместо этого фактически производить другое количество урана, обогащенного до некоторой другой концентрации 235U, отличающейся от проектной концентрации 235U при условии, что работа разделения остается прежней. Правда, при этом концентрация 235U.B выпускаемом продукте может отличаться от проектной только в некотором интервале, определяемом конструкционными особенностями завода. Например, газодиффузионный завод «Евро-диф» во Франции рассчитан на производство урана, обогащенного 235U не более чем до 5 °/о •

Изолированные атомы кислорода в ,решетке кремния электрически нейтральны. В результате термических обработок (как в процессе выращивания, так и при изготовлении приборов) атомы кислорода, взаимодействуя между собой и другими примесями и дефектами, образуют электрически активные комплексы *- термодоноры [194, 195]. Высокая концентрация термодоноров как низкотемпературных (генерирующихся при 623-773 К), так и высокотемпературных (генерирующихся при 823-1073 К), затрудняет получение заданного УЭС в монокристаллах. Особенно это проявляется при необходимости получить УЭС > 20 Ом • см.

Основное механическое оборудование непрерывного стана холодной прокатки состоит из разматывателей Р1...РЗ, сварочной машины СМ, натяжных устройств НУ1...НУ4, петлевого накопительного устройства ПНУ, петлевой ямы ПЯ, гильотинных ножниц НГ, барабанных ножниц НБ, моталок Ml, М2, клетей К1... Кб и весов В для взвешивания прокатанных рулонов. Стан оснащен датчиками, электроприводами и исполнительными механизмами. Основными из них являются: электроприводы разматывателей Р1 и Р2, исполнительные механизмы сварочной машины, исполнительные механизмы головной части, электропривод разматывате-ля РЗ, главные электроприводы, обеспечивающие получение заданной частоты вращения рабочих валков клетей, датчики и измерительные устройства стана, электроприводы нажимных устройств, обеспечивающие получение заданного раствора валков клетей, исполнительные механизмы выходной части, электроприводы моталок.

Для измерения компонент внутреннего сопротивления по нагрузочным ВАХ СЭ следует исключить неопределенность, связанную с незнанием величины параметра ВАХ А при различных значениях тока через р—и-переход. Как уже указывалось, нагрузочная ВАХ р—и-перехода строится на основании зависимости /ф=/ (U'x.*) при варьировании освещенности от нуля до уровня, обеспечивающего получение заданного значения /ф. Ряд отрезков /ф откладывается по оси токов вниз от значения /ф, и далее им сопоставляются соответствующие значения U'x v, как это изображено на 2.10, а. Вычитая кривую 1 из кривой 2, получаем рабочую кривую 3. В соответствии с формулой (2. 33) (или (2. 41), если RK=^=0), отрезок Д?/нв, отсекаемый этой кривой на горизонтали /ф, будет равен