Химического источникаПайка с флюсами наиболее! распространена и общедоступна, так как ее можно осуществлять в обычных атмосферных условиях без применения дорогостоящего оборудования. Расплавленный флюс растекается по паяемой поверхности и припою, смачивает их и вступает с ними во взаимодействие, в результате которого удаляется оксидная пленка. Основными причинами удаления оксидов металлов являются: 1) химическое взаимодействие между флюсом и оксидной пленкой с образованием растворимого во флюсе соединения; 2) химическое взаимодействие между флюсом и основным металлом, в результате которого происходит постепенный отрыв оксидной пленки и перевод ее в шлак; 3) адсорбционное понижение прочности оксидной пленки под действием расплава припоя и диспергирование ее; 4) растворение оксидной пленки основного металла и припоя во флюсе.
Активирование с помощью энергии деформации приводит к тому, что все большая часть сопрягаемых поверхностей в зоне контакта включается в соприкосновение друг с другом, очищается от оксидных и адсорбционных пленок. Одновременно происходит размножение и выход дислокаций на контактную поверхность, а также химическое взаимодействие с образованием прочных связей.
процессы, влияющие на состав расплава, — термическая диссоциация исходного вещества, его химическое взаимодействие с окружающей средой и испарение компонентов расплава продуктов их диссоциации и примесей;
Известны физические способы активации поверхности полиимида в плазме тлеющего разряда при плотности тока разряда 10—103 А/м2 и давлении между электродами 2,7 X х102— 2,7 • 103Па. Более сильное химическое взаимодействие с осаждаемым металлом наступает при наличии на поверхности полиимида перекисных радикалов (R — О — — О), С-О-групп и других кислородосодержащих групп, которые возникают при химической обработке разбавленной хромовой смесью на основе серной кислоты при повышенной температуре с последующей термической обработкой (450— 550 К) в инертной атмосфере или в вакууме. Адгезия ваку-
Допустимым значением в ряде установок считается Д^0,01 q0 в сутки (или 0,3 q0 в месяц). Необходима периодическая подзарядка бездействующих АБ во избежание необратимых изменений состава активной массы электродов. Саморазряд возникает вследствие нескольких причин, главные из которых — химическое взаимодействие электролита с пластинами электродов; самопроизвольное преобразование компонентов активной массы пластин; наличие градиента плотности электролига вдоль нысоты электрода. Последнее обусловливает неэквипотенциальность электрода по высоте: более высокий потенциал имеет место в нижней части пластин, где плотность электролита увеличена, что приводит к возникновению уравнительного тока внутри АБ.
Механизм взаимодействия зависит от характера материала (органический, неорганический) и его способности поглощать (сорбировать) влагу или удерживать ее на поверхности (адсорбировать). Поглощение влаги обусловлено тем, что материалы содержат поры, значительно большие размера молекулы влаги, равного 3-10~10м (межмолекулярные промежутки в полимерах—10 9 м, капилляры в целлюлозе--10"* м, поры в керамике 10" 5 м). Органические материалы поглощают влагу через капилляры или путем диффузии. Неорганические взаимодействуют с влагой, конденсирующейся или адсорбируемой на поверхности. С металлами влага вступает в химическое взаимодействие, вызывающее коррозию; она также может проникать через поры и капилляры. Действие влаги усиливается при контакте металлов с сильно отличающимися электрохимическими потенциалами, а также в местах сварных швов, содержащих интерметаллические соединения.
Полые влагозащитные оболочки позволяют освободить защищаемые компоненты от механического контакта с оболочкой, что обеспечивает работу в более широком диапазоне температур и исключает химическое взаимодействие оболочки и защищаемого компонента. Полые оболочки, особенно из неорганических материалов, обеспечивают более высокую надежность влагозащиты, но имеют значительные габариты, массу, стоимость. Наиболее эффективно использование полых оболочек для групповой герметизации бескорпусных компонентов в составе блока. Это объясняется уменьшением длины герметизирующего шва (по сравнению
могут возникнуть в них. Кроме того, устраняется химическое взаимодействие оболочки с защищаемым изделием. Одновременно часто улучшается теплоотвод (при использовании оболочек, теплопроводность которых выше теплопроводности полимеров), повышается надежность влагозащиты и обеспечивается электромагнитное экранирование (при использовании оболочки из металла или металлизированной керамики), ослабляются паразитные связи ввиду уменьшения в при замене полимера воздухом.
Плавка в холодных тиглях [25]. Одним из методов получения особо чистых металлов, полупроводников и окисных материалов является плавка в холодных тиглях, т. е. в металлических (медных и реже серебряных) во-доохлаждаемых тиглях, помещаемых в плавильный индуктор. Низкая температура тигля предотвращает химическое взаимодействие между ним и расплавом.
3. Кинетическая стадия процесса. Это собственно химическое взаимодействие адсорбированных молекул травителя с полупроводником: происходит разрыв химических связей между атомами, расположенными в объеме, и поверхностными атомами полупроводника и удаление последних в раствор. Механизмы, ответственные за протекание .этой стадии, многообразны, часто достаточно сложны и требуют специального рассмотрения.
Процесс перехода кремния в оксид определяет как его структуру, так и структуру переходной области Si — SiO2. Химическое взаимодействие кремния с кислородом возможно на поверхности раздела оксид — кремний (когда коэффициент диффузии кислорода в оксиде больше, чем коэффициент диффузии кремния в нем); на поверхности оксида (при обратном соотношении коэффициентов диффузии); внутри оксида (если эти коэффициенты близки).
174. В качестве анода химического источника электрической энергии был использован марганец. Какой из металлов необходимо выбрать в качестве катода, чтобы эдс элемента составила: а) + 1,87 В; б) —0,29 В; в) —2,75 В?
2) напряжение химического источника тока (ламповый и полупроводниковый стабилизаторы напряжения);
Х.6. ВЫБОР ХИМИЧЕСКОГО ИСТОЧНИКА ПИТАНИЯ И ЕГО РАСЧЕТ
Х.6. Выбор химического источника питания и его расчет .... 320
Конструктивное исполнение элементов химических источников тока может быть различным, но в их состав обязательно входят два электрода — проводника первого рода, разделенного слоем электролита — проводника второго рода. Совокупность активных веществ электродов и электролита называется электрохимической системой химического источника тока.
Электрод химического источника тока, на котором протекают окислительные процессы, называется отрицательным электродом или анодом. Электрод, на котором протекают восстановительные процессы, называется положительным электродом или катодом. Иногда электроды собирают в блоки, представляющие объединенные в конструктивное целое, чередующиеся между собой положительные и отрицательные электроды, разделенные сепараторами (ионопро-ницаемыми диэлектрическими слоями).
Основными электрическими параметрами химических источников тока являются: напряжение разомкнутой цепи — напряжение между выводами химического источника тока при разомкнутой внешней цепи Ux; номинальное напряжение — напряжение между выводами внешней цепи замкнутыми на номинальную нагрузку 1/ном; начальное напряжение — напряжение химического источника тока в начале разряда или заряда, измеряемое через установленный промежуток времени UMaKC; конечное напряжение — условное напряжение, ниже которого химический источник тока считается разряженным имш; внутреннее сопротивление — сумма омического сопротивления химического источника тока и поляризационных сопротивлений его электродов гвт. R общем случае напряжение U химического источника тока при токе разряда /р, с сопротивлением внешней цепи /?вш, равно t/=(/x — Ipre-t=U^RBul/(RBul-\-rB-T).
Зависимость напряжения химического источника тока от различны;: факторов (времени, температуры, плотности электролига, режима разряда и пр.) выражается с помощью разрядных кривых.
К основным параметрам относятся также его емкость и энергия. Емкость представляет ссбой количество электричества, которое отдается химическим источником тока при его разряде за время /Р до достижения конечного напряжения (С = /р/р). Практически используются значения номинальной емкости химического источника тока С„ом — емкости, которую должен отдать свежеизготовленный химический источник тока в нормальных условиях разряда, указанных для данного источника, и удельной емкости Суд, приходящейся на единицу объема или массу химического источника тока. Потеря емкости химического источника тока, обусловленная протеканием в нем самопроизвольных процессов, характеризуется саморазрядом б, %, б=(С — С2) 100/Ci, где Ci, C$ — соответственно начальная и конечная емкости, измеренные в начале и конце времени саморгзряда.
Энергия W, отдаваемая химическим источником тока во внешнюю непь, равна произведению его емкости на среднее значение напряжения при разряде; удельная энергия равна количеству энергия, приходящейся на единицу объема или массы химического источника тока.
Ток в пассивной электрической цепи, подключенной к источнику э. д. с., зависит от параметров этой цепи и э. д. с. е (t). Если выводы идеального источника э. д. с. замкнуть накоротко, то ток теоретически должен быть бесконечно велик. Поэтому такой источник рассматривается как источник бесконечной мощности (теоретическое понятие). В действительности при замыкании зажимов реального источника электрической энергии — химического источника тока, генератора и т. п. — ток может иметь только конечное значение, так как э. д. с. источника уравновешивается падением напряжения от тока внутри источника (например, в сопротивлении г, индуктивности L).
Похожие определения: Характеристике определяют Характеристики электрических Характеристики электронного Характеристики аналогичны Характеристики детектора Характере распределения Характеристики характеристики
|