Химически осажденный

ции, а также теплофикационные трубопроводы и паропроводы к потребителю теплоты и др.), приборы и системы автоматического управления, окажется необходимым расширить ряд цехов, и прежде всего цеха химической обработки воды, так как наряду с химически обработанной водой для паровых котлов потребуется обработанная вода для заполнения и подпитки тепловых сетей.

Для деаэрации умягченной химически обработанной воды, направляемой обьино в тепловую сеть в качестве добавки ^компенсирующей потери в сети), в последние годы начали применять горизонтальные струино-барботажные деаэраторы, в которых в качестве теплоносителя используется вода тепловых сетей. Принципиальная схема устройства такого деаэратора показана на 6.19. Деаэрируемая вода вводится в распределительный коллектор 2, расположенный в верхней части деаэратора и далее поступает на верхнюю тарелку. Перфорация на этой тарелке имеется только на небольшой части поверхности около перелива (порога), через который осуществляется слив ш вторую тарелку. Рассчитана перфорация на пропуск воды 30% номинального расхода деаэратора. Остальная часть сливается через порог. Тарелка обеспечи-

шивается с химически обработанной (умягченной) водой и потери пара и конденсата на ТЭЦ возрастают. В рассматриваемой конструкции теплота вводится в деаэратор с водой, предварит!;льно нагретой в сетевых подогревателях конденсирующимся паром отборов. Образовав-пшйся при этом конденсат сохраняется в системе ТЭЦ.

На многих тепловых электростанциях восполнение потерь конденсата и пара производится дистиллятом, который получают в испарительных установках из химически обработанной (умяпенной) воды или воды, прошедшей упрощенную обработку (известкование, содоиз-весткование, умягчение подкислением). Имеются также установки, которые работают на сырой воде с затравкой [54]. Такой метод подготовки добавочной воды паровых котлов (ПГ) называют термическим обессиливанием. В зависимости от того, какая вода подводится к испарителю, применяется тот или иной тип испарителя. На 6.28 приведена схема простейшей испарительной установки. При работе испарителя к нему непрерьтно подводится вода, обработанная одним из указанных методов, или (при другой конструкции испарит зля) наряду с необработанной (неумягченной) водой вводится затразка, которая требуется для того, чтобы осаждение солей жесткости происходило на частицах взвеси, а не на поверхностях теплообмена. В качестве затравки применяется обычно мелкокристаллическая взвесь природного мела и строительного гипса.

Для использования теплоты продувочной води барабанного парового котла (см. 7.1) в схеме имеются расширители Pv иР2- Потери пара и конденсата восполняются дистиллятом, г слученным на испарительных установках, поэтому продувочная вода из Р2 подается в бак, где смешивается с химически обработанной водой, направляемой в испаритель. На блоке имеются две испарительнне установки, одна из них подключена к пятому отбору, другая — к шестому. Испарители Я, и Иг имеют свои конденсаторы КИг и КИ2, включенные в систему регенеративного подогрева питательной воды. Умягченная вода, направляемая в испарители, предварительно деаэрируется в деаэраторе при р= ОДПМПа.

Шлифовка и полировка осуществляются на специальных станках, на держатели которых наклеиваются пластины. Для снижения повреждений поверхности при осуществлении этих процессов 'необходимо использовать на заключительных операциях мелкие шлифовальные порошки с размером зерна менее 0,5 мкм. Окончательная обработка проводится полировкой, химическим и газовым травлением. Поверхность полированной пластины более ровная, чем химически обработанной, однако

Для изоляции обмоточных проводов и отводов, а также межслоевой изоляции обмоток и других устройств применяют различные электроизоляционные бумаги, изготовленные из химически обработанной древесной целлюлозы на специальных бумагоделательных машинах. Помимо определенных требований в отношении диэлектрической проницаемости, угла диэлектрических потерь и электрической прочности одной из важных характеристик бумаг является стойкость их к старению под воздействием температуры, влаги, кислорода и каталитического воздействия металлов в масле. В мировой практике известно использование изоляционных бумаг и картона, 132

Деаэраторы атмосферного давления применяются главным образом для дегазации питательной и подпиточной воды в котельных с паровыми котлами и на ТЭЦ. При этом использование деаэраторов для подпиточной воды основного контура предусматривается только при отсутствии де-аэрационного устройства в конденсаторах турбин или в случаях, когда количество подводимой в конденсатор химически обработанной или обессоленной воды ограничивается условиями его нормальной работы. В деаэраторах типа ДА подогрев воды равен 10—40 °С, температура деаэрированной воды — 104,25 "С, рабочее давление — 0,12 МПа, номинальная производительность их — 0,28—83 кг/с (1—300 т/ч). Схема деаэрационной установки атмосферного давления с колонкой струйно-барботажного типа показана на 3.71.

Испарители поверхностного типа применяются в отечественных энергоустановках чаще всего для получения вторичного пара из химически обработанной воды. Этот пар либо отпускается внешним потребителям (при этом сохраняется в цикле станции конденсат греющего пара, отбираемого из турбины), либо конденсируется основным конденсатом и вводится в цикл станции для восполнения потерь рабочего тела.

а — двухкорпусная испарительная установка блока с турбиной К-210-12,8; б — шестиступенчатая испарительная установка ТЭЦ; / — деаэратор атмосферного давления; 2 — подвод химически обработанной воды; 3 — питательный насос испарителей; 4 — испарители; 5 — конденсаторы испарителей; 6 — сливной насос; 7 — подогреватель смешивающий (ПНД2); 8 — кон-денсатный насос (КН2); 9 — подогреватель поверхностный (ПНДЗ); 10 ¦— продувка; // — турбина; 12 — подогреватель химически обработанной воды; 13 — подогреватели питательной воды испарителей; 14 — расширитель; 75 — охладитель продувки; 16 — в деаэратор питательной воды; IV—VI— номера отборов турбины

Деаэраторы атмосферного давления применяются главным образом для дегазации питательной и подпиточной воды в котельных с паровыми котлами и на ТЭЦ. При этом использование деаэраторов для подпиточной воды основного контура предусматривается только при отсутствии де-аэрационного устройства в конденсаторах турбин или в случаях, когда количество подводимой в конденсатор химически обработанной или обессоленной воды ограничивается условиями его нормальной работы. В деаэраторах типа ДА подогрев воды равен 10—40 °С, температура деаэрированной воды — 104,25 °С, рабочее давление — 0,12 МПа, номинальная производительность их — 0,28—83 кг/с (1—300 т/ч). Схема деаэрационной установки атмосферного давления с колонкой струйно-барботажного типа показана на 3.71.

Магнитодиэлектрики, как сказано, состоят из связующего вещества — диэлектрика и магнитных зерен наполнителя. В качестве магнитного наполнителя используют порошкообразные:' альсифер, карбонильное железо, восстановленное железо, пермаллой и ферриты. Альсифер — сплав алюминия (5,4%), кремния (9,6%), железа (ост.) с ц-a = 30000; альсифер обладает высоким удельным сопротивлением р = 8-10~6 ом -см, свойствами хорошей размольности, но зерна получаются с острыми краями и выступами. Карбонильное железо — химически осажденный порошок с зернами округлой формы размером 0,5 -т- 5 мкм; ia = 3000. Восстановленное железо — пористое вещество, получаемое восстановлением окиси железа; оно легко размалывается • в порошок; начальная магнитная проницаемость в плотном теле около 500. Применяют такие порошки из высоконикелевого пермаллоя с \ла до 100000, а также из высокопроницаемых ферритов. Магнитная проницаемость магнитодиэлектрика (I значительно ниже указанных значений ц,а и составляет 6 -т- 60 (табл. 18.4). Магнитную проницаемость (I можно определить, зная объемное содержание магнитного материала q :[Г = ц". Диэлектрическая проницаемость магнитодиэлектрика ё определяется на основании значений е„ и ед— диэлектрической проницаемости магнитного материала и связующего вещества ё = е« • е'~а. В качестве связующего вещества используют для низкочастотных сердечников в основном формальдегидные и эпоксидные смолы, для высокочастотных — полистирол и другие смолы с малым tg бд. Магнитодиэлектрики обладают низкой прово-

Спекание меди с керамикой в слабоокислительной среде. Химически осажденный слой меди толщиной 25—50 мкм спекается с подложкой из высокоглиноземистой керамики в слабоокислительной атмосфере аргона (азота) в смеси с весьма малым количеством кислорода (до 0,1%). Спекание протекает при точно поддерживаемой температуре 1070±5°С в течение 10 с. Расплавленный эвтектический слой Cu + Cu2O, температура плавления которого 1065° С, смачивает сомкнутые поверхности металла и керамики в зоне контакта. Слой весьма тонкий, несколько микрометров, определяемый глубиной проникновения кислорода в медь. Электроотрицательный кислород приводит к образованию положительных ионов меди, которые затем ионной связью соединяются с твердофазным окислом керамики [33].

/ - элементы p-i-n малой площади; // - то же, большой; III — МДП-элементы малой площади; IV — каскадные солнечные батареи на a-SiC гетеропереходах; V - порог экономической выгодности производства наземных солнечных батарей; VI — a-Si гомопереход; VII - интегральные солнечные батареи на гетеропереходах из a-SiC; 1-4 - данные фирмы RCA (X - неопубликованные данные; / - оксиды индия-олова/ p-i-n a-Si:H; 2 - Pt/a-Si:H; 3- р a-SiC:H/;-« a-Si:H; 4 - обратная p-i-n a-Si:H структура); .5-7 - данные Университета в Осаке (3 - оксиды нндия-олова или SnOj/p-i-и a-Si:H; 6 - каскадная батарея из двух элементов; 7 - р a-SiC:H/ i-n a-Si:H; 8-11 - данные фирмы "Sanyo" (S - оксиды нндия-олова/ p-i-n a-Si:H; 9 - интегрированный элемент; 10 - обратная p-i-n a-Si:H структура; 11 - р a-SiC:H/ i-n a-Si.H); 12-14 - данные фирмы "Fuju" (12 - Pt/a-Si:Hj 13 - обратная p-i-n a-Si:H структура; 14 - n мк-Si/i-p a-Si:H); /5 - данные Университета в Данди (обратная p-i-na-Si:H структура); 16, 17 - данные фирмы ECD (16- AuPd/NbO/a-Si:H:F; 17- a-Si:F:H); 18, 19 - данные фирмы "Mitsubishi" (18- каскадная батарея на основе a-SiGc:H; 19 - обратная p-i-n a-Si:H структура); 20 - данные фирмы NEC (оксиды индия-олова/ p-i-n a-Si:H); 21 ~ данные фирмы "Teijin C.R.L." (оксиды индия-олова/р-/-и/ реактивно распыленная нержавеющая сталь/полиамид); 22-23 - данные Токийского технологического университета (22 - Аи// a-Si:F:H/« a-Si:H; 23 -окснды нндия-олова/ p-i-n a-Si:H); 24 - данные Университета в Хиросиме (Pt/i-n химически осажденный a-Si/и к-Si); 25 - данные фирмы "Sumitomo" (p a-SiC:ft/ i-n a-Si:H); 26, 27 - данные фирмы "Shaip-ECD" (26 - каскадная батарея на основе a-SiGe:F:H; 27 - a-Si:F:H); 28 - данные фирмы "Siemens" (оксиды индия-олова/ n-i-p a-Si:H/Ag); 29 - 31 - данные Университета в Осаке (29 - pa-SiC:H/i a-Si:H/M мк-Si/Ag. 30 - окснды нндия-олова/ п мк-Si/i-p a-Si:H/TiO2Ag/ нержавею-Щая сталь; 31 - оксиды индия-олова/и мк-Si/i-p a-Si:H/« к-Si/p поли-Si/Al

6.1.6. Этапы проичводства самоеовмешенного a-Si-ТПТ (Сугиура и др.): SiO2 (ХО) - химически осажденный SiO2

Из логических устройств с применением a-Si-ТПТ были исследованы схемы с инверторами в интегральном исполнении. Интегральный инвертор типа обеднение - обогащение состоял из ТПТ со ступенчатым расположением электродов и нагрузочного сопротивления, которым служил слой п +-a-Si [4]. Этот инвертор работал при напряжении питания 15 В. Инвертор типа обогащение - обогащение состоял из двух компланарных ТПТ, в которых в качестве подзатворного диэлектрика использовался SiO2, химически осажденный из газовой фазы в реакторе пониженного давления. Геометрическое бета-отношение в таком инверторе, т.е. отношение величины W/L ключевого и нагрузочного транзисторов, составляло около 20; максимальное усиление слабого сигнала равнялось 2 при питающем напряжении 10В [23].

1 - стекло Корнинг 7059; 2 - поликристаллический кремний; 3 - химически осажденный SiO2; 4 - исток; 5 - затвор; 6 - сток

В настоящей статье рассматривается новый аморфный материал с высокой проводимостью, представляющий собой химически осажденный из газовой фазы тройной сплав Si-Ge-B.

/ - элементы p-i-n малой площади; // - то же, большой; III — МДП-элементы малой площади; IV - каскадные солнечные батареи на a-SiC гетеропереходах; V - порог экономической выгодности производства наземных солнечных батарей; VI — a-Si гомопереход; VII - интегральные солнечные батареи на гетеропереходах из a-SiC; 1-4 - данные фирмы RCA (X - неопубликованные данные; / - оксиды индия-олова/ p-i-n a-Si:H; 2 - Pt/a-Si:H; 3- р a-SiC:H/;-« a-Si:H; 4 - обратная p-i-n a-Si:H структура); .5-7 - данные Университета в Осаке (5 - оксиды нндия-олова или SnO2/p-/-« a-Si:H; 6 - каскадная батарея из двух элементов; 7 - р a-SiC:H/ i-n a-Si:H; 8-11 - данные фирмы "Sanyo" (8 - оксиды нндия-олова/ p-i-n a-Si:H; 9 - интегрированный элемент; 10 - обратная p-i-n a-Si:H структура; 11 - р a-SiC:H/ i-n a-Si.H); 12-14 - данные фирмы "Fuju" (12 - Pt/a-Si:Hj 13 - обратная p-i-n a-Si:H структура; 14 - n мк-Si/i-p a-Si:H); /5 - данные Университета в Данди (обратная p-(-na-Si:H структура); 16, 17 - данные фирмы ECD (16- AuPd/NbO/a-Si:H:F; 17- a-Si:F:H); 18, 19 - данные фирмы "Mitsubishi" (18- каскадная батарея на основе a-SiGc:H; 19 - обратная p-i-n a-Si:H структура); 20 - данные фирмы NEC (оксиды индия-олова/ p-i-n a-Si:H); 21 - данные фирмы "Teijin C.R.L." (оксиды индия-олова/р-/-п/ реактивно распыленная нержавеющая сталь/полиамид); 22-23 - данные Токийского технологического университета (22 - Аи// a-Si:F:H/« a-Si:H; 23 -окснды индия-олова/ p-i-n a-Si:H); 24 - данные Университета в Хиросиме (Pt/i-n химически осажденный a-Si/и к-Si); 25 - данные фирмы "Sumitomo" (p a-SiC:ft/ i-n a-Si:H); 26, 27 - данные фирмы "Sharp-ECD" (26 - каскадная батарея на основе a-SiGe:F:H; 27 - a-Si:F:H); 28 - данные фирмы "Siemens" (оксиды индия-олова/ n-i-p a-Si:H/Ag); 29 - 31 - данные Университета в Осаке (29 - pa-SiC:H/i a-Si:H/H мк-Si/Ag. 30 - окснды нндия-олова/ п мк-Si/i-p a-Si:H/TiO2Ag/ нержавею-Щая сталь; 31 - оксиды индия-олова/и мк-Si/i-p a-Si:H/« к-Si/p поли-Si/Al

6.1.6. Этапы проишодстиа самоеовмешенного a-Si-ТПТ (Сугиура и др.): SiO2 (XO) - химически осажденный SiO2

Из логических устройств с применением a-Si-ТПТ были исследованы схемы с инверторами в интегральном исполнении. Интегральный инвертор типа обеднение — обогащение состоял из ТПТ со ступенчатым расположением электродов и нагрузочного сопротивления, которым служил слой п +-a-Si [4]. Этот инвертор работал при напряжении питания 15 В. Инвертор типа обогащение - обогащение состоял из двух компланарных ТПТ, в которых в качестве подзатворного диэлектрика использовался SiOj, химически осажденный из газовой фазы в реакторе пониженного давления. Геометрическое бета-отношение в таком инверторе, т.е. отношение величины W/L ключевого и нагрузочного транзисторов, составляло около 20; максимальное усиление слабого сигнала равнялось 2 при питающем напряжении 10В [23].

1 - стекло Корнинг 7059; 2 - поликристаллический кремний; 3 - химически осажденный SiO2; 4 - исток; 5 - затвор; 6 - сток

В настоящей статье рассматривается новый аморфный материал с высокой проводимостью, представляющий собой химически осажденный из газовой фазы тройной сплав Si-Ge-B.